标先始终专注于真空等离子、电化学等材料表面处理领域的电子设备

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发布时间：2021-06-10 16:20

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多年来，标先始终专注于真空等离子、电化学等材料表面处理领域的电子设备及相关工艺研究。坚持以科技创新来推动产品更新，有力的提升了公司在这一领域的超前地位。目前，公司可以生产九个类别，七十余款电源产品及电子设备，其中高功率脉冲电源峰值功率已延伸至兆瓦级。公司获得授权18项国家专利，其中一项发明专利，已通过 ISO9001：2015 质量管理体系认证。随着公司研发队伍的壮大和潜心努力，公司将继续推出新一代产品。

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直流磁控溅射电源的制作方法

2021-11-11

直流磁控溅射电源在高频变换模式下工作，直流输出且电源电流的调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现，那么，下面一起了解下直流磁控溅射电源的制作方法吧!

高功率脉冲磁控溅射电源的制作方法

2021-11-09

磁控溅射成膜工艺使用的电源为直流磁控溅射电源、中频磁控溅射电源、单极脉冲磁控溅射电源，溅射材料主要以中性原子/自由基为主，溅射机构为动能电源电压范围在Ikv以下，离子能量只有几个电子伏左右，形成的等离子体离解率低，可控性差，难以优化沉积膜的质量和性能，那么，下面一起了解下高功率脉冲磁控溅射电源的制作方法吧!

高功率脉冲磁控溅射电源的工作原理和工作方式

2021-11-08

高功率脉冲磁控溅射电源使用矩形波电压的脉冲电源代替传统的直流电源进行磁控溅射沉积。高功率脉冲磁控溅射电源技术可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时提高溅射沉积速度，降低沉积温度等一系列显着的优点，那么，下面一起了解下高功率脉冲磁控溅射电源的工作原理和工作方式吧!

中频磁控溅射的效率如何提高？

2022-09-07

如何提高利用率是真空中频磁控溅射镀膜行业的重点,圆柱管靶利用高,但在有些产业是不适用，利用外加磁场捕捉电子，延长和束缚电子的运动路径，搞高离化率，增加镀膜速率。

中频磁控溅射的技术介绍

2022-08-26

中频磁控溅射过程涉及复杂的散射过程和各种能量转移过程：首先，入射粒子与靶原子发生弹性碰撞，入射粒子的部分动能会转移到靶原子上。一些目标原子的动能超过了周围其他原子形成的势垒(金属为5-10eV)，使其被撞出晶格，产生错位原子，并进一步与附近原子反复碰撞，产生碰撞级联，当这种碰撞级联到达靶面时，如果靠近靶面的原子的动能大于表面结合能(金属为1-6eV)，这些原子就会与靶面分离，进入真空。

中频磁控溅射的原理介绍